控制混合鹵化物鈣鈦礦薄膜的微觀結(jié)構(gòu)對(duì)于優(yōu)化其在光電器件中的性能至關(guān)重要。眾所周知,鈣鈦礦層的應(yīng)變狀態(tài)會(huì)影響其穩(wěn)定性。同樣,鈣鈦礦晶格的取向是一個(gè)決定性參數(shù),因?yàn)檫@些材料在其物理和機(jī)械性能方面表現(xiàn)出明顯的各向異性。鑒于此,2022年2月26日法國(guó)格勒諾布爾阿爾卑斯大學(xué)Stéphanie Pouget團(tuán)隊(duì)于AEM刊發(fā)MAPbI3鈣鈦礦薄膜的微觀結(jié)構(gòu):應(yīng)變和織構(gòu)的綜合研究的研究成果。專注于理解控制在各種氧化物基板上沉積的MAPbI3薄膜中觀察到的應(yīng)變和紋理的機(jī)制。對(duì)鈣鈦礦層在從結(jié)晶溫度(100°C)冷卻至室溫時(shí)應(yīng)變演變的深入研究表明,鈣鈦礦層的行為基本上是松弛的。該結(jié)果與普遍接受的假設(shè)相矛盾,根據(jù)該假設(shè),在環(huán)境溫度以上合成的MAPbI3層由于鈣鈦礦及其基板的熱膨脹系數(shù)的大失配而受到應(yīng)變。通過(guò)同步加速器全場(chǎng)衍射 X 射線顯微鏡研究MAPbI3層中的紋理。該技術(shù)允許在觀察到的紋理的起源處直接觀察 [hh0] 和 [00l] 取向的域,展示了它們的孿生和鐵彈性特性。通過(guò)DFT計(jì)算研究了不同疇取向的穩(wěn)定性,說(shuō)明了化學(xué)環(huán)境在薄膜-基板界面處的決定性作用。發(fā)現(xiàn)PbI2終止的表面有利于[hh0]方向,而對(duì)于MAI終止的表面,[hh0]和[00l]域同樣穩(wěn)定。從控制鈣鈦礦層微觀結(jié)構(gòu)的角度來(lái)看,不同的結(jié)果構(gòu)成了澄清和理解的重要一步。
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